หน้าแปลนอลูมิเนียมไนไตรด์

รายละเอียดสินค้า

ประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์

• ค่าการนำความร้อนสูงมาก: ค่าการนำความร้อนสามารถสูงถึง 170-200 W/(m·K) เทียบได้กับอลูมิเนียมโลหะและเซรามิกอลูมินา 5-8 เท่า ช่วยให้สามารถถ่ายเทและกระจายความร้อนได้อย่างมีประสิทธิภาพสูง
• ฉนวนไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม: มีความต้านทานสูงที่โดดเด่น ทำให้มั่นใจได้ถึงการแยกทางไฟฟ้าที่เชื่อถือได้ (การนำไฟฟ้าของอะลูมิเนียมไนไตรด์ต่ำ ทำให้เป็นฉนวน) ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับใช้เป็นส่วนประกอบฉนวน เช่น พื้นผิวเซรามิก AlN (พื้นผิวอะลูมิเนียมไนไตรด์, พื้นผิวเซรามิก aln, พื้นผิวอะลูมิเนียมไนไตรด์, พื้นผิว aln), เวเฟอร์เซรามิก AlN (เวเฟอร์อัลน์, เวเฟอร์อลูมิเนียมไนไตรด์, เวเฟอร์อลูมิเนียมไนไตรด์) รวมถึง AlN เซรามิกโมดูลแสงและเลเซอร์ไดโอดซ่อมบูชเซรามิก
• ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนจับคู่กับซิลิคอน: ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อน (4.5×10⁻⁶/ องศา ) ใกล้เคียงกับค่าของซิลิคอนมาก (3.5×10⁻⁶/ องศา ) ช่วยลดความเครียดจากความร้อนในการใช้งานที่มีการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างรุนแรงและป้องกันความล้มเหลวในการเชื่อมต่อ
• ความแข็งแรงและความแข็งทางกลสูง: ให้ความเสถียรของโครงสร้างที่ดีและทนต่อการสึกหรอ ทำให้มั่นใจในความน่าเชื่อถือของส่วนประกอบโครงสร้าง ALN, ชิ้นส่วน AlN และส่วนประกอบเซรามิก AlN
• ความต้านทานการกัดกร่อนที่โดดเด่นและความเสถียรทางเคมี: ต้านทานการกัดเซาะจากโลหะหลอมเหลวและสารเคมีส่วนใหญ่ ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับสภาพแวดล้อมที่รุนแรง ดังนั้นจึงสามารถใช้ในการผลิตถ้วยใส่ตัวอย่างเซรามิก AlN (ถ้วยใส่ตัวอย่างอัลเอ็น ถ้วยใส่ตัวอย่างอะลูมิเนียมไนไตรด์) หัวฉีด AlN และส่วนประกอบที่ต้านทานการกัดกร่อน-ในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์
• ค่าคงที่ไดอิเล็กทริกต่ำและการสูญเสียอิเล็กทริกต่ำ: ทำงานได้ดีเยี่ยมในความถี่สูง-และแอปพลิเคชันไมโครเวฟที่มีการสูญเสียการส่งสัญญาณต่ำ ซึ่งเป็นคุณลักษณะประสิทธิภาพหลักสำหรับเซรามิกโมดูลออปติคัล AlN และส่วนประกอบ RF
• ความสามารถในการแปรรูปและการปรับเปลี่ยนได้อย่างแม่นยำ: การขัดและการเจียรเซรามิก Aln อย่างมืออาชีพโดยผู้ผลิต/ซัพพลายเออร์อะลูมิเนียมไนไตรด์สามารถบรรลุพื้นผิวที่มีความเที่ยงตรงและความเรียบเนียนสูงมาก ทำให้เกิดซับสเตรตขัดเงาอะลูมิเนียมไนไตรด์ (ซับสเตรตขัดเงา ALN, ซับสเตรตขัดเงา AIN)

การประยุกต์ใช้ผลิตภัณฑ์

• อุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์: ทำหน้าที่เป็นเครื่องทำความร้อนเซรามิก AlN (เครื่องทำความร้อนเวเฟอร์), หัวจับเซรามิก AlN (หัวจับไฟฟ้าสถิต), ส่วนประกอบสำหรับห้องปฏิกิริยา CVD/PVD (โดยใช้กังหัน AlN, หัวฉีด AlN), หน้าต่าง, การป้อนเข้า หรือชุดประกอบฉนวน (เช่น แพ็คเกจ/ตัวเรือนการปิดผนึก AlN) สำหรับอุปกรณ์แกะสลักพลาสมา เหมาะอย่างยิ่งสำหรับระบบแนะนำ RF และพลังงานไมโครเวฟ
• อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง-และอุปกรณ์เลเซอร์: ใช้สำหรับบรรจุภัณฑ์และพื้นผิวเซรามิก AlN, แผงระบายความร้อน ALN สำหรับ- LED กำลังสูง, ไดโอดเลเซอร์ (บุชเซรามิกยึดด้วยเลเซอร์ไดโอด) และโมดูล RF แผ่นอะลูมิเนียมไนไตรด์ยังใช้สำหรับการเชื่อมต่อด้วยความร้อน
• เครื่องมือวิจัยด้านสุญญากาศและวิทยาศาสตร์: ใช้สำหรับหน้าแปลนเชื่อมต่อ ท่อเซรามิก AlN และส่วนประกอบโครงสร้างเซรามิก AlN ที่ต้องการการนำความร้อนสูงและฉนวนไฟฟ้าในการแผ่รังสีซินโครตรอน เครื่องเร่งอนุภาค และระบบสุญญากาศสูงพิเศษ- (UHV)
• อิเล็กทรอนิกส์ด้านการบินและอวกาศและการป้องกันประเทศ: ใช้สำหรับการกระจายความร้อนและบรรจุภัณฑ์ของพื้นผิว AlN ในระบบอิเล็กทรอนิกส์ที่มีความหนาแน่นสูง-ความน่าเชื่อถือ -กำลังสูง-
• พลังงานใหม่และอุตสาหกรรมเฉพาะทาง: เช่น แหวนปิดผนึกเซรามิกแบตเตอรี่เก็บพลังงาน ถ้วยใส่ตัวอย่างเซรามิก AlN สำหรับการถลุง และการใช้งานชิ้นส่วนที่ไม่สม่ำเสมอของ AlN ในอุปกรณ์เคมีและโลหะวิทยาพิเศษ
• การสื่อสารด้วยแสงและการจัดการที่แม่นยำ: ทำหน้าที่เป็นตัวกระจายความร้อนที่สำคัญและส่วนประกอบพาหะสำหรับเซรามิกโมดูลออปติคัล AlN ถ้วยดูดเซรามิกที่มีรูพรุนขนาดเล็กสำหรับการจัดการชิ้นส่วนที่ละเอียดอ่อนอาจใช้เทคโนโลยีเซรามิกที่เกี่ยวข้องด้วย

ความแข็งแกร่งของโรงงาน

เราค้นคว้าวิธีการเพื่อให้บรรลุถึงการใช้ทรัพยากรอย่างมีประสิทธิภาพ โดยบูรณาการเทคโนโลยีการตัดเฉือน CNC เทคโนโลยี IoT เชิงอุตสาหกรรม และระบบควบคุมอัตโนมัติ เพื่อให้สามารถใช้งานอุปกรณ์การผลิตที่เชื่อมโยงและทำงานร่วมกันได้ ซึ่งจะช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการผลิตให้สูงสุด