แผ่นดิสก์ตัวพาซิลิคอนคาร์ไบด์

แผ่นดิสก์ตัวพาซิลิคอนคาร์ไบด์

คำอธิบายผลิตภัณฑ์ ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ตัวรับซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC) (หรือที่เรียกว่าตัวพาเวเฟอร์ ฐาน หรือถาด) สำหรับอุปกรณ์ CVD เป็นวัสดุสิ้นเปลืองหลักที่สำคัญ ความสำคัญของมันเกิดจากคุณสมบัติเฉพาะของซิลิคอนคาร์ไบด์ ซึ่งทำให้ซิลิกอนคาร์ไบด์ในอุดมคติ...
ส่งคำถาม
คุยตอนนี้
คำอธิบาย

คำอธิบายผลิตภัณฑ์

 

แผ่นพาหะเซรามิกซิลิคอนคาร์ไบด์ผลิตจากวัตถุดิบซิลิกอนคาร์ไบด์ (SiC) ที่มีความบริสุทธิ์สูง-ผ่านกระบวนการต่างๆ เช่น การเผาผนึกปฏิกิริยา (ซิลิคอนคาร์ไบด์ที่พันธะด้วยปฏิกิริยา) การเผาผนึกแบบไร้แรงดัน (ซิลิคอนคาร์ไบด์เผาผนึก) หรือการตกผลึกใหม่ (ซิลิคอนคาร์ไบด์ที่ตกผลึกใหม่ / SiC ที่ตกผลึกใหม่) วัสดุ SiC นั้นมีพันธะโควาเลนต์ที่แข็งแกร่งและมีโครงสร้างที่มั่นคง ส่งผลให้เพลตตัวพามีคุณสมบัติทางกายภาพและเคมีที่โดดเด่น (คุณสมบัติซิลิคอนคาร์ไบด์) โดยทั่วไปจะใช้แทนวัสดุแบบดั้งเดิม เช่น ควอตซ์และอลูมินา โดยเฉพาะอย่างยิ่งในด้านที่ต้องการมาตรฐานที่สูงมากในด้านความสะอาด ทนต่ออุณหภูมิ และทนต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ

Silicon carbide carrier disc for CVD equipment.

 

ลักษณะและพารามิเตอร์ประสิทธิภาพที่สำคัญ

 

  • ความต้านทานต่ออุณหภูมิสูง-: สามารถทำงานในระยะยาว-ได้อย่างเสถียรในสภาพแวดล้อมที่สูงกว่า 1600 องศา โดยมีความทนทานในระยะสั้น-ถึง 1650 องศาหรือสูงกว่า เหมาะสำหรับสถานการณ์การใช้งานเซรามิกอุณหภูมิสูงพิเศษ- (เซรามิกอุณหภูมิสูงพิเศษ)
  • การนำความร้อนดีเยี่ยม: การนำความร้อนสูงของซิลิคอนคาร์ไบด์ช่วยให้ถ่ายเทความร้อนได้รวดเร็วและสม่ำเสมอ ลดการไล่ระดับอุณหภูมิระหว่างกระบวนการ
  • ความแข็งสูงและความต้านทานการสึกหรอ: ด้วยความแข็ง Mohs ใกล้ 9.5 จึงเป็นเซรามิกที่ทนทานต่อการสึกหรอ-ดีเยี่ยม ทนทานต่อการสึกหรอและการปนเปื้อนของอนุภาค
  • ทนต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างรุนแรง: เนื่องจากมีค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวจากความร้อนต่ำ จึงสามารถทนต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิที่รุนแรงได้โดยไม่แตกร้าว
  • ความเฉื่อยของสารเคมี: ทนทานต่อการกัดกร่อนของกรดและด่าง และไม่น่าจะทำปฏิกิริยากับก๊าซหรือวัสดุในกระบวนการส่วนใหญ่ องค์ประกอบทางเคมีของซิลิคอนคาร์ไบด์มีความเสถียร
  • ความสะอาดสูง: วัสดุมีโครงสร้างหนาแน่น เช่น SiC เผาผนึก โดยมีพื้นผิวเรียบที่ลดการดูดซับสิ่งเจือปนให้เหลือน้อยที่สุด ทำให้เหมาะสำหรับสภาพแวดล้อมกระบวนการที่มีความบริสุทธิ์สูง-

ceramicstimes performance parameter

การใช้งานหลักและผลิตภัณฑ์ที่เกี่ยวข้อง

 

  • อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์: ใช้สำหรับบรรทุกเวเฟอร์ซิลิคอนในกระบวนการที่อุณหภูมิสูง- เช่น การแพร่กระจาย การออกซิเดชัน การอบอ่อน และ CVD ยังใช้เป็นสารตั้งต้น SiC สำหรับ epitaxy เวเฟอร์ซิลิคอนอีกด้วย
  • อุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์: ทำหน้าที่เป็นสารตั้งต้นพาหะในกระบวนการเผาผนึกและการเคลือบเซลล์แสงอาทิตย์
  • การผลิต LED: ใช้ในเครื่องปฏิกรณ์ MOCVD เพื่อบรรทุกซับสเตรตแซฟไฟร์
  • การเผาผนึกเซรามิกที่แม่นยำ: ทำหน้าที่เป็นชั้นวางเตาเผาหรือการเผาที่อุณหภูมิสูง-ของเซรามิกอิเล็กทรอนิกส์ เซรามิกที่มีโครงสร้าง และคอมโพสิตเมทริกซ์เซรามิก
  • ชิ้นส่วนทางอุตสาหกรรม: ใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตแหวนซีลเชิงกล ตลับลูกปืน หัวฉีด บูช/บุช ท่อป้องกัน/ท่อเทอร์โมคัปเปิล และส่วนประกอบ SiC อื่นๆ
  • วัสดุทนไฟ: ทำหน้าที่เป็นวัสดุทนไฟขั้นสูงที่ใช้สำหรับวัสดุบุผิวเตา
  • การวิจัยและการทดสอบทางวิทยาศาสตร์: ทำหน้าที่เป็นอุปกรณ์สนับสนุนตัวอย่างในเตาเผาที่มีอุณหภูมิสูง-และการทดสอบวัสดุ

 

การควบคุมคุณภาพ

 

เราปฏิบัติตามระบบการจัดการคุณภาพ ISO 9001 อย่างเคร่งครัดเพื่อให้มั่นใจว่ามีความสม่ำเสมอ:

  • การตรวจสอบวัตถุดิบ 100%
  • สายการผลิตกดร้อน-ขั้นสูง
  • การทดสอบภายใน-: ความหนาแน่น ความแข็ง การวิเคราะห์โครงสร้างจุลภาค
  • การรับรองจากบุคคลที่สาม- (SGS, CE, ROHS ตามคำขอ)

 

certificate

 

exhibition

workshop

workshop

 

 

 

 

ป้ายกำกับยอดนิยม: แผ่นดิสก์ตัวพาซิลิคอนคาร์ไบด์ ผู้ผลิตดิสก์ตัวพาซิลิคอนคาร์ไบด์ ซัพพลายเออร์ โรงงาน, หลอดเซรามิกซิลิคอนคาร์ไบด์หัวฉีดเซรามิก