พื้นผิว AIN

อลูมิเนียมไนไตรด์ (AlN) หรือที่รู้จักกันในชื่ออลูมิเนียมไนไตรด์หรือไนทรูโรเดออลูมิเนียมเป็นสารประกอบเซรามิกที่มีสูตรทางเคมี AlN มีโครงสร้างผลึกเวิร์ตไซต์และมีชื่อเสียงในด้านการนำความร้อนที่ยอดเยี่ยม ความเป็นฉนวนไฟฟ้าสูง และคุณสมบัติทางกลที่แข็งแกร่ง วัสดุนี้นำเสนอโดยผู้ผลิตและซัพพลายเออร์อะลูมิเนียมไนไตรด์หลายราย ซึ่งมีเสถียรภาพทางความร้อนที่โดดเด่นและทนทานต่อการกัดเซาะของสารเคมี เนื่องจากเซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์ชั้นนำหรือเซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์ จึงเป็นตัวเลือกที่ต้องการสำหรับการใช้งานที่มีความต้องการสูง รูปแบบผลิตภัณฑ์ที่สำคัญได้แก่ซับสเตรต AlN, เวเฟอร์ AlN, แผ่น AlN, เพลต AlN และรูปทรงพิเศษ เช่น ถ้วยใส่ตัวอย่าง AlN, ท่อ AlN และชิ้นส่วนอะลูมิเนียมไนไตรด์แบบกำหนดเอง เช่น ตัวระบายความร้อน AlN และส่วนประกอบโครงสร้าง AlN

1. สารตั้งต้น AIN มีค่าการนำความร้อนสูง
วัสดุซับสเตรต AIN มีค่าการนำความร้อนที่ดีเยี่ยม ซึ่งโดยปกติจะสูงถึง 170-200W/(m·K) ซึ่งสูงกว่าซับสเตรตอะลูมิเนียมออกไซด์แบบดั้งเดิมมาก

2. พื้นผิว ALN มีฉนวนสูง
สารตั้งต้น ALN เป็นฉนวนไฟฟ้าที่ดีเยี่ยมและมีความต้านทานสูงมาก คุณลักษณะนี้ช่วยให้สามารถแยกส่วนประกอบไฟฟ้าต่างๆ ในวงจรอิเล็กทรอนิกส์ได้อย่างมีประสิทธิภาพ เพื่อป้องกันกระแสไฟฟ้ารั่วและการลัดวงจร

3. พื้นผิวเซรามิก AIN เข้ากันได้ดีกับวัสดุชิป
ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อนของ AIN ใกล้เคียงกับค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนของวัสดุชิปเซมิคอนดักเตอร์ทั่วไปบางชนิด ซึ่งสามารถลดความเครียดที่เกิดจากความแตกต่างของการขยายตัวทางความร้อนระหว่างชิปและพื้นผิวเมื่ออุณหภูมิเปลี่ยนแปลง และหลีกเลี่ยงความล้มเหลวของชิป เช่น การแตกร้าวและการหลุดร่อน

4. พื้นผิวเซรามิก ALN มีคุณสมบัติเชิงกลที่ดี
พื้นผิวเซรามิก ALN มีความแข็งและความแข็งแรงสูง และสามารถทนต่อแรงกดดันทางกลและการกระแทกบางอย่างได้ คุณสมบัติเชิงกลที่ดีของซับสเตรตเซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์ช่วยให้มั่นใจได้ว่าจะไม่เกิดความเสียหายได้ง่ายในสถานการณ์เหล่านี้ โดยคงโครงสร้างและฟังก์ชันปกติของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ไว้

เซรามิก AlN และซับสเตรต AlN มีค่าการนำความร้อนที่โดดเด่น (โดยทั่วไปคือ 170-200 W/m·K) ซึ่งสูงกว่าเซรามิกอลูมินาและเซรามิกทั่วไปอื่นๆ อย่างมาก ทำให้ซับสเตรตที่มีค่าการนำความร้อนสูงของ AIN เหมาะสำหรับการจัดการระบายความร้อน อีกทั้งยังมีความต้านทานไฟฟ้าสูง การสูญเสียอิเล็กทริกต่ำ และต้านทานการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลัน ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนใกล้เคียงกันกับค่าสัมประสิทธิ์ของซิลิคอน ซึ่งช่วยลดความเครียดในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ผลิตภัณฑ์ต่างๆ เช่น เครื่องทำความร้อน AlN เครื่องทำความร้อนเซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์ และแผ่นระบายความร้อนเซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์ ใช้ประโยชน์จากคุณสมบัติเหล่านี้เพื่อการทำความร้อนที่มีประสิทธิภาพและเชื่อถือได้

เซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังสูง- ระบบไฟ LED ไดโอดเลเซอร์ ส่วนประกอบความถี่วิทยุ (RF) และบรรจุภัณฑ์เซมิคอนดักเตอร์ เวเฟอร์ AlN, เวเฟอร์อะลูมิเนียมไนไตรด์, เวเฟอร์อะลูมิเนียมไนไตรด์ และซับสเตรตอะลูมิเนียมไนไตรด์ ทำหน้าที่เป็นเวเฟอร์ตัวพาที่สำคัญ ตัวกระจายความร้อน และชั้นฉนวนในการใช้งานเหล่านี้ เซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์สั่งทำพิเศษ รวมถึงซับสเตรตอะลูมิเนียมไนไตรด์ ถ้วยใส่ตัวอย่าง ท่อ แผ่น และชิ้นส่วนต่างๆ ได้รับการออกแบบมาเพื่อความต้องการเฉพาะด้านในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศ ยานยนต์ และโทรคมนาคม การใช้งานเฉพาะอื่นๆ ได้แก่ ส่วนประกอบเครื่องทำความร้อน AlN ถ้วยดูดเซรามิกที่มีรูพรุนขนาดเล็ก (เมื่อประดิษฐ์จาก AlN หรือวัสดุที่คล้ายกัน) และแผ่นและแผ่นอะลูมิเนียมไนไตรด์ต่างๆ สำหรับฉนวนไฟฟ้าและการจัดการความร้อน

เราสามารถปรับแต่งพื้นผิวเซรามิกได้ตามความต้องการของลูกค้า เราเป็นผู้ผลิตพื้นผิวเซรามิกจากจีน ความหนาแน่นของพื้นผิวเซรามิกยังสามารถปรับแต่งได้ ในเวลาเดียวกัน เราสามารถปรับแต่งพื้นผิวเซรามิกที่กลึงได้ พื้นผิวเซรามิกที่มีความบริสุทธิ์สูง พื้นผิวเซรามิกที่มีอุณหภูมิสูง พื้นผิวเซรามิกอุตสาหกรรม พื้นผิวเซรามิกเซมิคอนดักเตอร์ หากคุณมีความต้องการใด ๆ เกี่ยวกับพื้นผิวเซรามิกอะลูมิเนียมไนไตรด์ โปรดติดต่อเรา

ป้ายกำกับยอดนิยม: สารตั้งต้น ain ผู้ผลิตสารตั้งต้น ain ซัพพลายเออร์ โรงงาน, ตัวหนีบเรือเซรามิกปั๊มฉีดเซรามิกเซรามิก